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市场应用

Market application

半导体集成电路

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简介

PicoMaster光刻机,可以在高对比度的正胶上加工出小于300纳米分辨率的特征结构。

要求和结果

图1:200纳米间距的沟槽结构,深度约880nm
图2:不对称光栅结构。结构1:L218P535;结构2:L278P635

样品展示

简介

PicoMaster 系统支持顶侧对准。在Simax特有的轻便型光学模组中集成有520万像素的单色摄像头,测量分辨率100纳米。 最终的对准误差不仅取决于测量分辨率,也取决于对准标记的质量、温度的稳定性,以及系统的校正。

要求和结果

对准误差可以小于250纳米,但是必须满足一定的测量要求:
• 正确的系统校正
• 系统和基底的温度的稳定性
• 高质量的对准标记,最小尺寸50微米
• 第一层的对准标识同样是由PicoMaster 系统加工
利用游标尺结构进行顶侧对准测试,对准精度小于100纳米

样品展示

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